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2020年中國光刻機產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和競爭分析

2020-08-12 10:48

產(chǎn)業(yè)鏈——在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中占據(jù)重要地位

光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備，光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。

光刻機產(chǎn)業(yè)的上游主要包括光刻機核心組件和光刻機配套設(shè)施，下游則主要應(yīng)用于半導(dǎo)體／集成電路的制造與封裝。

圖表1：光刻機產(chǎn)業(yè)鏈示意圖

圖表2：光刻機產(chǎn)業(yè)鏈上游代表性國產(chǎn)企業(yè)

產(chǎn)業(yè)政策——政策助力光刻機行業(yè)發(fā)展

從政策環(huán)境上來看，我國對于光刻機行業(yè)較為重視。其主要表現(xiàn)在對于整個IC產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的政策優(yōu)待以及對于半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的相關(guān)規(guī)劃與推動。其主要表現(xiàn)在資金方面的補助和人才方面的培養(yǎng)，以及進出口，投融資方面的政策扶持。

在各項政策中較為突出的是《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》項目（02專項），其以專項的形式組織了一批國內(nèi)光刻機企業(yè)進行了一系列重點工藝和技術(shù)的攻關(guān)，有效促進了我國光刻機行業(yè)的發(fā)展。

圖表3：我國光刻機行業(yè)政策規(guī)劃解讀